超純水設(shè)備在半導體行業(yè)中優(yōu)勢盡顯

時間：2024-06-05

　　半導體在集成電路、通信系統(tǒng)、光伏發(fā)電等領(lǐng)域應用廣泛，大部分的電子產(chǎn)品制造都與半導體息息相關(guān)，承載了重要的功能。無論是從科技發(fā)展還是經(jīng)濟發(fā)展來看，半導體創(chuàng)造的價值都不可估量，是衡量國家科學技術(shù)發(fā)展能力和發(fā)展?jié)摿Φ闹匾蛩刂弧?/p>

　　半導體良率的提高不僅可以降低半導體產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)成本，還能顯著提高產(chǎn)品的品質(zhì)和安全性能。超純水和半導體良率之間有密切的關(guān)聯(lián)性，它能用于清洗半導體材料以保證生產(chǎn)質(zhì)量。超純水中基本不含有任何有機物、微生物、金屬離子、細菌等物質(zhì)，用于清洗半導體能確保其不受雜質(zhì)污染。

超純水設(shè)備

　　超純水設(shè)備是生產(chǎn)超純水的專用產(chǎn)品，采用了“反滲透+EDI+拋光混床”的技術(shù)，生產(chǎn)出的超純水水質(zhì)能達到18MΩ*cm(25℃)。反滲透是指超純水設(shè)備中應用了反滲透膜技術(shù)，能實現(xiàn)對納米級物質(zhì)的分離去除，因而能有效分離出超純水中應該被去除的金屬離子、細菌、和顆粒雜質(zhì)等成分。同時，由于反滲透膜擁有強大的抗污染能力，因而在生產(chǎn)過程中，它能有效降低超純水設(shè)備的故障率，減少清洗次數(shù)，延長設(shè)備的使用壽命。

　　EDI技術(shù)能對超純水進行深度脫鹽，能實現(xiàn)帶電荷運行加速離子遷移，提高了超純水設(shè)備的脫鹽率。并且，EDI模塊運行無污染物質(zhì)產(chǎn)出，不會產(chǎn)生酸堿廢液，環(huán)保性能很好。拋光混床模塊的進一步處理，則有效確保了超純水設(shè)備的出水水質(zhì)。

　　總而言之，超純水設(shè)備具有生產(chǎn)連續(xù)穩(wěn)定、無污染、能耗低、工藝流程短、操作簡單等優(yōu)勢，其還采用了智能程序，可以靈活進行操作，性價比很高。

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　　編輯：新奇技術(shù)：加菲

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